i社区用户: 密码:
搜索:
首页| 资讯| 信息化| 产品| 专题| 创业| 技术天地| 企业中心| 企业论坛| 职场| 周报全文| 商城| 市场
会展| Blog| i社区| 社区联盟| RSS| 电子杂志| 发行| 直播| IT两会| i| 下载| 上网导航| CIO俱乐部

精测磁盘与磁头距离可大大提高存储容量



硬磁盘与磁头之间的距离对硬盘存储容量有很大影响。日本IBM公司开
发了一种能精密测量这一距离的新技术。最小可测距离为25.4毫微米,比
过去缩小60%。这一距离越小,存储容量越大。这对多媒体来说尤其重要。
该测量设备价格低廉,并已开始对外销售。价格为2000万日元至3000
日元。根据其用途和性能的不同该测量设备共分4种机型。
目前生产的硬盘机,这一距离为76毫微米,每片磁盘的容量为270M
B(2.5英寸)。距离减小一半,则容量可增加一倍。
新技术还可计算光源和磁盘表面的反射、折射率等的差异。由于一边对数
据的差异进行补偿,一边计算距离,所以测量精度比过去大大提高。
该测量设备采用廉价的CCD(电荷耦合器件)摄像机代替反射光受光器
等特殊结构。过去的一般测量设备对磁头一点一点地测量,并且要移动测量装
置,而新测量设备可以同时测量整个磁头,不需要移动机构,从而降低了设备
成本,并可使设备体积缩小到750×1000×1500毫米。

(计算机世界报 1994年 第20期)



周报全文频道联系方式:010-68130909
【关于我们】  【广告服务】  【周报发行】  【投稿指南】  【投稿声明】  【联系方式】  【法律声明】
  【媒体手册】  【编读往来】  
Copyright© ccw.com.cn,All rights reserved
中国计算机世界出版服务公司版权所有